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VTC-600G高真空磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄...
VTC-600GD高真空磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600GD高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
VTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪 参考价：面议
VTC-1HD-Z F2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪是多功能高真空镀膜设备，含单靶磁控溅射仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、...
GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪 参考价：面议
GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，...
VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、...
钙钛矿镀膜机 参考价：面议
钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧...
VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪 参考价：面议
VTC-1RF-SPC磁控溅射蒸发镀膜仪是一套可实现射频磁控溅射和蒸发镀膜功能的系统，包含射频电源、温控型蒸发镀膜模块、真空系统，水冷设备，磁控溅射靶头，不锈钢...
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪可对样品进行镀碳处理，可处理的样品直径可达50mm，真空度可达到10-2torr，适合用于实验室对小样品进行表...
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜...
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜...
GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪 参考价：面议
GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的Z简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导...
3靶等离子溅射仪 参考价：面议
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为Ø50...
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300?...
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的Z简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个...
溅射蒸发一体机 参考价：面议
VTC-180EVS溅射蒸发一体机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪 参考价：面议
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单...
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化...
VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪 参考价：面议
产品简介：VTC-16-SM小型高能直流磁控溅射仪是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头（另有1英寸靶头可选）和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后...
磁控溅射卷绕镀膜机 参考价：面议
产品简介：磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备，适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜（铜，铝等）功能性薄膜，设备采用*的磁控溅射镀膜技术，配备直流、...
VGB-600-3HD薄膜电池制备系统 参考价：面议
VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作，用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
小型粉末PVD包覆系统 参考价：面议
小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统，主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚，通过溅射在粉末表面进行包覆形成...
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